プラズマ密度分布の英語

プラズマ密度分布の均一化に伴うプラズマ処理装置の製造コスト上昇を抑制する。例文帳に追加

To suppress the increase of manufacturing cost of a plasma treatment device accompanied by the homogenization of plasma density distribution. - 特許庁

均一なプラズマ密度分布が得られるプラズマ処理装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a plasma treatment device capable of providing a uniform plasma density distribution. - 特許庁

真空容器内のプラズマ密度分布の均一化を図り得るプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasmas processing device capable of making a density distribution of plasma uniform in a vacuum chamber. - 特許庁

誘導結合型のプラズマ処理においてチャンバ内に形成されるドーナツ状プラズマ内のプラズマ密度分布を効率よく任意に制御すること。例文帳に追加

To efficiently and optionally control a plasma density profile in doughnut-shaped plasma formed in a chamber in inductively coupled plasma processing. - 特許庁

プラズマの密度分布の不均一性や薄膜の不均一性が改善されたプラズマ生成装置およびプラズマ生成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma generation apparatus and a plasma generation method, wherein unevenness of density distribution of plasma and nonuniformity of thin film are improved. - 特許庁

プラズマ密度分布の均一性とプラズマ生成効率の向上が得られるようにしたプラズマ処理装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a plasma treatment device enabled to improve uniformity of plasma density distribution and plasma generation efficiency. - 特許庁

誘導結合型のプラズマ処理においてチャンバ内で生成されるドーナツ状プラズマ内のプラズマ密度分布ひいては基板上のプラズマ密度分布を多様かつ精細に制御する。例文帳に追加

To accurately control, in diversified manners, plasma density distribution in a doughnut-shaped plasma generated in a chamber during an induction coupling type plasma process, and further the plasma density distribution on a substrate. - 特許庁

水平面における１の領域ではプラズマ密度を大きくするとともに他の領域ではプラズマ密度を小さくする等、プラズマ密度の分布を任意の状態に変化することができるプラズマ分布制御が可能なプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing apparatus, capable of performing plasma distribution control which can make a distribution of plasma density change at an arbitrary condition such that the plasma density is enlarged in one region on a horizontal plane and the plasma density is lessened in other regions. - 特許庁