マグネトロン放電の英語

マグネットの移動による放電電圧の変化が少ないマグネトロンスパッタ方法とその方法の実施に適した装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a magnetron sputtering method by which the change of discharge voltage by the movement of a magnet is small and to provide a device suitable for the execution of the method. - 特許庁

電子レンジの出力効率が良好で、かつ、マグネトロンの出力部と導波管との間に生じる放電を抑制する。例文帳に追加

To provide a microwave oven having superior output efficiency, capable of restraining discharges between an output part of a magnetron and a waveguide. - 特許庁

放電開始可能圧力より低い圧力で成膜するマグネトロンスパッタ方法において、膜質の向上を図る。例文帳に追加

To improve the film quality in a magnetron sputtering method in which film formation is executed under the pressure lower than that capable of starting discharge. - 特許庁

無電極ランプを放電させるマグネトロンの寿命を損なわずに、調光時における良好な発光スペクトルを実現する。例文帳に追加

To achieve a suitable light-emitting spectrum upon dimming without damaging life of a magnetron for discharging an electrodeless lamp. - 特許庁

マグネット６を移動させてマグネトロンスパッタリングする方法に於いて、該マグネットをその移動中にマグネトロン放電の電圧の増減に応じて該表面と垂直方向へ移動させてその放電の電圧をほぼ一定に維持する。例文帳に追加

In this method in which a magnet 6 is moved, and magnetron sputtering is executed, in the process of the movement of the magnet, it is moved to the direction vertical to the surface in accordance with the increase and decrease of the voltage of magnetron discharge, and the voltage of the discharge is retained to the approximately certain one. - 特許庁

真空に排気可能な容器内に、平板型マグネトロンカソードと基材保持機構とが対向して配置されているスパッタ成膜装置において、前記マグネトロンカソードと前記基材保持機構との間に、前記マグネトロンカソードの放電面を囲んで環状の磁性体が配置されていることを特徴とする、スパッタ成膜装置。例文帳に追加

In the sputtering film deposition apparatus, a flat plate type magnetron cathode and a base material holding mechanism are arranged opposite to each other in a vessel to be evacuated to vacuum, an annular magnetic material is arranged surrounding a discharge surface of the magnetron cathode between the magnetron cathode and the base material holding mechanism. - 特許庁

高周波を発振するマグネトロン２４と、マグネトロン２４に高電圧を印加する高圧トランス２１とを含む高周波発振手段２でもって、調理対象を高周波加熱する高周波加熱装置であって、高圧トランス２１の２次コイルＴｓでコロナ放電が発生したときに、マグネトロン２４の動作を停止させる異常対処手段３，４を備えている。例文帳に追加

The high frequency heating device high frequency-heats a cooking object with a high frequency oscillation means 2 containing a magnetron 24 for oscillating high frequency, and a high voltage transformer 21 for applying high voltage to the magnetron 24, and has means-coping-with-abnormality 3, 4 for stopping the operation of the magnetron 24 when corona discharge is generated in a secondary coil Ts of the high voltage transformer 21. - 特許庁

異常放電が少なく、長時間安定的に放電可能なプラズマ処理用マグネトロン電極、及び異常放電に伴うダスト発生を抑制した成膜方法を提供する。例文帳に追加

To provide a magnetron electrode for plasma processing which causes less abnormal discharge and can stably discharge for a long time, and to provide a film deposition method in which dust generation accompanied by abnormal discharge is suppressed. - 特許庁