半没水体の英語

フロート１により半水没状に支持される枠体２に対して、左右二枚の扉体３，３を開閉自在に取り付ける。例文帳に追加

Both right and left door bodies 3 and 3 are mounted to a frame body 2 supported by a float 1 in a semi-submersible state. - 特許庁

水面下に水没する航走体に立設され、幕的を水面上に保持するためのストラットにおいて、母船により高速に曳航された場合または高速に自航した場合にも、半没水体を横傾斜させるような流体力が発生しにくいストラットを提供する。例文帳に追加

To provide a strut hardly producing the fluid power laterally inclining a half-submerged body even when the half-submerged body is towed at a speed higher than a mother ship, or navigated by itself at a high speed, with respect to the strut erected on a sailing body submerged under the water surface for holding a cloth target on the water surface. - 特許庁

平膜フィルタが半没状態すなわち完全に水中に沈没しなくても液体を吸引し、固液分離できる平膜フィルタを提供し、また、この平膜フィルタを用いた新規な濾過方法を提供するものである。例文帳に追加

To provide a flat membrane filter capable of sucking liquid and solid- liquid separating even if the flat membrane is in half-dipped state, that is, is not completely dipped into water, and a novel filtering method using the flat membrane. - 特許庁

さらに、その製造した半導体パワーモジュール２０を、冷却水流路１９が形成された電力変換装置の筐体壁１２ａに取り付け、そのフィン３０５が冷却水流路１９に水没するようにする。例文帳に追加

Further, the manufactured semiconductor power module 20 is suitable for a housing wall 12a of a power converter where a cooling water flow passage 19 is formed, and the fins 305 are dipped in the water in the cooling water flow passage 19. - 特許庁

海水バラスト４０を注入し排水する１つ以上の半没水型ロワハル浮体１１上に大型加圧膜構造体２０を搭載するデッキ１３が設けられ、ロワハル浮体１１に海水バラスト４０を注入または排水することでデッキ１３を潜水または浮上してなる。例文帳に追加

A deck 13 for loading a large pressurized membrane structure 20 is provided on at least one semi-submerged type lower hull floating body 11 to and from which seawater ballast 40 is injected and drained, and the deck 13 is submerged and floated by injecting or draining the seawater ballast 40 to and from the lower hull floating body 11. - 特許庁

半導体ウエハの表面仕上げ研磨を行う研磨室と仕上げ研磨後のウエハの最終洗浄を行う洗浄室とを連結するウエハ搬送部によって研磨室から仕上げ研磨済の半導体ウエハを水没状態で洗浄室へ搬送する導体ウエハ研磨・最終洗浄装置。例文帳に追加

The apparatus for polishing and finally cleaning the semiconductor wafer conveys the finish polished wafer from a polishing chamber to a cleaning chamber in a submerged state, by a wafer conveyor for coupling the polishing chamber for surface finish polishing the wafer to the cleaning chamber for finally cleaning the finish polished wafer. - 特許庁

これによって、半導体光触媒は比表面積の大きな第１の多孔質構造体３に担持され水との接触面積が広がり、また水没することがないので、十分な強度の光を受けることができ、水を酸素と水素とに高効率で分解して、多くの酸素と水素とを回収することができる。例文帳に追加

The semiconductor photocatalyst is supported by the first porous structure 3 with a large specific surface area and the contact area with water spreads, moreover does not sink in water, thereby can receive light of sufficient intensity, and decompose water into oxygen and hydrogen in high efficiency, and a lot of oxygen and hydrogen gases can be taken up. - 特許庁