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double diffraction methodとは 意味・読み方・使い方
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「double diffraction method」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
METHOD FOR DERIVING BIREFRINGENCE CHARACTERISTIC FOR CLOSE-CONTACT DOUBLE LAYER TYPE DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT例文帳に追加
密着複層型回折光学素子の複屈折特性導出方法 - 特許庁
To provide a molding method optimum for molding a thin data recording disk substrate low in double diffraction and excellent in mechanical characteristics, and a mold therefor.例文帳に追加
複屈折が小さく、機械特性に優れた薄型の情報記録ディスク基板の成形に最適な成形方法及び成形金型を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a diffraction grating, capable of easily obtaining excellent imaging performance by suppressing residual distortion due to unevenness of the refractive index and occurrence of double refraction of a material of the diffraction grating and further molding the grating in a precise shape, and the diffraction grating manufactured by the same.例文帳に追加
回折格子の材質の屈折率の不均一性及び複屈折の発生からの残歪を抑え、更に格子形状を精度良く成形し、簡便にして良好なる結像性能を得ることができる回折格子の製造方法及びそれによって製造した回折格子を得ること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a double-sided photomask having a diffraction optical element pattern formed on a transparent substrate, which is capable of obtaining desired optical characteristics by accurately recognizing the etched state of the transparent substrate to form the diffraction optical element pattern with precise etching depth and pattern dimensions, and to provide the double-sided photomask.例文帳に追加
透明基板に回折光学素子パターンが形成されている両面フォトマスクの作製方法において、透明基板のエッチング状態を正確に把握して、回折光学素子パターンのエッチング深さおよびパターン寸法を高精度に形成し、所望の光学特性を得ることが可能な両面フォトマスクの作製方法および両面フォトマスクを提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a polarizing and splitting element and a polarizing and splitting element capable of improving yield in photo-lithography and dry etching which are processes for forming diffraction gratings on a double diffraction film by sticking an optical anisotropic film on an optically transparent substrate wafer so as to improve the flatness, and further, to provide a hologram laser unit and an optical pickup unit improved in reliability.例文帳に追加
本発明は、光学的透明基板ウェハに光学的異方性膜を平坦性が向上するように貼り付け、複屈折膜上に回折格子を形成する工程であるフォトリソグラフィー、ドライエッチングにおいて歩留りを向上できる、偏光分離素子の製造方法及び偏光分離素子、更に信頼性の向上したホログラムレーザユニット及び光ピックアップ装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a crystal which enables conformational analysis of a receptor using the phenomenon of diffraction, wherein the receptor retains a constant conformation in a phospholipid double membrane, a production method of the crystal and a method of conformational analysis using the same.例文帳に追加
本発明は、リン脂質二重膜中で一定の立体構造を保持する受容体について、回折現象を利用した立体構造解析を可能にする結晶およびその製造方法及びこれを利用した立体構造解析方法に関する。 - 特許庁
The photosensitive silver paste is a photosensitive electrically conductive resin paste comprising an alkali-soluble resin, a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond, a photopolymerization initiator, silver powder, glass frit, calcium carbonate having 0.01-1 μm average particle diameter measured by a laser diffraction method and an organic solvent.例文帳に追加
アルカリ可溶性樹脂、不飽和二重結合を有する架橋性モノマー、光重合開始剤、銀粉、ガラスフリット、平均粒径がレーザー回折法による測定で0.01〜1μmである炭酸カルシウム、有機溶剤からなる感光性の導電性樹脂ペーストである。 - 特許庁
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「double diffraction method」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
The airtight sealing inspection method performs airtight sealing inspection for a multilayer structure such as double glazing, a vacuum cup, and a multilayer diffraction optical element and a vacuum pack packed airtightly with heat seal by obtaining interference fringes on the surface of the object to be inspected and observing a change in the interference fringes caused by pressurization and depressurization.例文帳に追加
ペアガラス、真空コップ、積層型回折光学素子等の複層体や、ヒートシールによる密封包装された真空パックの密封封止検査を、被検査物表面の干渉縞を捉え、更に加圧又は減圧させることによる干渉縞の変化を観察することにより検査する。 - 特許庁
In a method of forming a marker MX for double-gate SOI processing on an SOI wafer, at least one marker has a diffracting structure in a first direction, and the diffracting structure is positioned so as to generate an asymmetrical diffraction pattern during use in an alignment and overlay detection system for detection in the first direction.例文帳に追加
SOIウエハ上でのダブルゲートSOI処理のためのマーカーMXの作成方法においては、少なくとも1つのマーカーは第1方向への回折構造を有し、回折構造は、第1方向における検出のために、配列及びオーバレイ検出システムで用いている間に、非対称的回折パターンを生成するよう配置される。 - 特許庁
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