double-diffused transistorとは 意味・読み方・使い方

To provide a lateral double-diffused MOS (LDMOS) transistor capable of reducing regenerative current flowing into a semiconductor substrate or on-current of a parasitic bipolar transistor without increasing the chip size.例文帳に追加

半導体基板に向かって流れ込む回生電流又は寄生バイポーラトランジスタのオン電流を、チップサイズを増大させることなく低減できるＬＤＭＯＳトランジスタの実現が課題となる。 - 特許庁

To provide a semiconductor and the manufacturing method of the same capable of optimally compatible with both of the suppression of operation of a parasitic bipolar transistor, and of the reduction of on-resistance of a double diffused MOS (metal oxide semiconductor) transistor.例文帳に追加

寄生バイポーラトランジスタの動作の抑制と二重拡散型ＭＯＳトランジスタのオン抵抗の低減とを好適に両立することのできる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The substrate for the inkjet recording head uses a transistor of the same element structure, that is an LDMOS (lateral double diffused MOS) structure, as a driver transistor for driving a heater for ejecting ink, for a sub-heat driver transistor for driving the sub-heater for carrying out heating and temperature regulation control of the recording head.例文帳に追加

インクを吐出するためのヒータを駆動するドライバートランジスタと記録ヘッドを加熱・温調制御するためのサブヒータを駆動するサブヒートドライバートランジスタを同一の素子構造を持つトランジスタとし、ＬＤＭＯＳ（Ｌａｔｅｒａｌ Ｄｏｕｂｌｅ Ｄｉｆｆｕｓｅｄ ＭＯＳ）構造を持つトランジスタとする。 - 特許庁

The lateral double-diffused MOS transistor has a first conductivity type drift region 2 provided on a second conductivity type semiconductor substrate 1, and a body diffusion region 3 formed on the surface thereof.例文帳に追加

第２導電型の半導体基板１上に設けられた第１導電型のドリフト領域２と、その表面に形成された第２導電型のボディ拡散領域３を備える。 - 特許庁

To provide a protective circuit for a semiconductor element capable of suppressing an influence of an increase of a circuit element size or a variation of an element in manufacturing without deteriorating characteristics of a lateral double-diffused MOS transistor (LDMOS).例文帳に追加

横方向二重拡散ＭＯＳトランジスタ（ＬＤＭＯＳ）の特性を悪化させることがなく、回路素子サイズの増大や各素子の製造時のばらつきの影響を抑えることができる、半導体素子の保護回路を提供する。 - 特許庁

Then, the semiconductor device 1 has, in an LDMOS region 5, an LDMOSFET (Lateral Double diffused Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) composed of a body region 8, a drain buffer region 9, a source region 11, a gate electrode 14 etc.例文帳に追加

そして、半導体装置１は、ＬＤＭＯＳ領域５に、ボディ領域８、ドレインバッファ領域９、ソース領域１１およびゲート電極１４などからなるＬＤＭＯＳＦＥＴを備えている。 - 特許庁

A DMOS (double diffused metal oxide semiconductor) transistor 23 and the pn junction diode 22a are formed on one SOI layer 13b surrounded by trench separation 15 in a shape that they are insulated electrically by a p-type diffusion layer 20 formed in a state of being levitated electrically on the SOI layer 13b surrounded by the trench separation 15.例文帳に追加

トレンチ分離１５で囲まれた１つのＳＯＩ層１３ｂには、ＤＭＯＳトランジスタ２３と温度検出用ＰＮ接合ダイオード２２ａとが、電気的に浮いた状態で形成されるＰ型拡散層２０によって電気的に絶縁される形で形成されている。 - 特許庁