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gas groupとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ガスグループ
「gas group」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 982件
The gas source of plasma is provided with gas including a VI group element.例文帳に追加
該プラズマの気体源はVI族元素を含む気体を具えている。 - 特許庁
CONTROL SYSTEM FOR DISCHARGING EXTINGUISHING GAS IN GAS GROUP EXTINGUISHING FACILITIES例文帳に追加
ガス系消火設備における消火ガスの放出制御システム - 特許庁
Simultaneously, a carrier gas is introduced to the surface of the group 3 metal material 3 to carry the gas of the group 3 metal gas generated and supplies the group 3 metal gas which is carried by the carrier gas to the mixing section in the state that the group 3 metal gas is surrounded by a shielding gas.例文帳に追加
その際、3族金属材料3の表面にキャリアガスを導入して発生した3族金属ガスをこのキャリアガスにキャリアさせ、このキャリアガスにキャリアされた3族金属ガスをシールドガスで囲まれた状態で混合部に導入する。 - 特許庁
On the shower plate 21, group III system gas buffer areas 23b and group V system gas buffer areas 24b respectively isolated from one another for filling a group III system gas and a group V system gas, are stacked in this order.例文帳に追加
シャワープレート21上に、III族系ガスとV族系ガスとのそれぞれを充満させる互いに隔離されたIII族系ガスバッファエリア23bとV族系ガスバッファエリア24bとがこの順に積層される。 - 特許庁
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「gas group」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 982件
To diagnose deterioration of a catalyst provided in each gas discharging group, in an engine having an independent gas discharging group for each cylinder group.例文帳に追加
気筒のグループ毎に独立した排気系を有するエンジンにおいて、それぞれの排気系に設けられた触媒の劣化を診断する。 - 特許庁
The compressed gas is supplied from the gas compressing pump 66 to an upstream gas jetting hole group 62U, a downstream gas jetting hole group 62D, a right side gas jetting hole group 62R and a left side gas jetting hole group 62L individually through the pneumatic tubes 641 to 644.例文帳に追加
上流側気体噴射孔群62U、下流側気体噴射孔群62D、右側気体噴射孔群62R及び左側気体噴射孔群62Lは、気体チューブ641〜644を通じて、個々に個々に気体圧縮用ポンプ66から圧縮された気体が供給される。 - 特許庁
Further, any one of gas selected from a group consisting of Ar gas, N_2 gas and CO gas, a mixed gas including two or more gases selected from the group or the like can be used as the gas for physical etching.例文帳に追加
また、物理エッチング用のガスには、Arガス、N_2ガス、及びCOガスからなる群の中から選択されるいずれか1つのガス又は2以上のガスを含む混合ガスなどを用いることができる。 - 特許庁
GAS PHASE GROWING APPARATUS, MANUFACTURING METHOD OF GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
気相成長装置、III族窒化物半導体基板の製造方法、III族窒化物半導体基板 - 特許庁
A reactive gas with a halogenated group II metal gas containing at least zinc and an oxygen-containing gas mixed with each other is introduced onto a substrate 1, and a group V hydrogenated gas is introduced onto the substrate 1 as a p-type impurity material gas.例文帳に追加
基板1上に、少なくとも亜鉛を含むハロゲン化II族金属ガスと酸素含有ガスを混合した反応ガスを導入し、また、基板1上にp型不純物原料ガスとしてV族の水素化物ガスを導入する。 - 特許庁
The gas blanket 7 is selected from group composed of inert gas, nitrogen and oxygen.例文帳に追加
ガスブランケット7は、不活性ガス、窒素及び酸素からなる群から選択される。 - 特許庁
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